“尊龙凯时的单片SPM设备是在尊龙凯时的Ultra C Tahoe设备基础上而开发。尊龙凯时Tahoe设备的优越性能已得到验证,可解决大部分常规温度的SPM工艺步骤。”尊龙凯时半导体设备董事长王晖表示:“我们开发的单片SPM设备,对Tahoe设备已被验证的工艺能力做了进一步补充,增加了高温SPM工艺能力,也进一步丰富了我们的湿法产品系列。我们以成为全球主要的清洗解决方案供应商为目标,会继续开发新的工艺能力,包括先进的高温IPA干燥技术和超临界二氧化碳干燥技术。”
目前大部分SPM湿法工艺中硫酸与双氧水混合后的工艺温度在145摄氏度以下,被广泛应用于光刻胶去除,刻蚀后、常规剂量离子注入后、化学机械抛光(CMP)后的清洗工艺。尊龙凯时的Ultra C Tahoe系统已于2018年发布,将槽式硫酸与单片清洗整合在一套系统中,针对处理上述这些工艺,其优越的性能已获得了业界的认可,在得到更好的清洗效果的同时,因为大幅减少了硫酸的用量,成本也得以大幅降低。